SUMINISTRO DE UN SISTEMA DE LIMPIEZA Y ACTIVACION SUPERFICIAL MEDIANTE PLASMA DE OXIGENO PARA EL INSTITUTO DE SISTEMAS OPTOELECTRONICOS Y MICROTECNOLOGIA (ISOM) DE LA UNIVERSIDAD POLITECNICA DE MADRID (SUM-17/26 OTT)

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Datos generales

Importe

74.000,00 €

Publicación

11/05/2026

Plazo de ofertar

25/05/2026 08:00 (Fecha superada)

Contrato

Suministros

Estado actual

Publicado

Órgano de contratación

RECTORADO DE LA UNIVERSIDAD POLITECNICA DE MADRID

Lugar

Ramiro de Maeztu 7 Madrid

Lugar tipado

ES3 - Comunidad de Madrid

Periodo de ejecución

06/05/2026 - 29/06/2026
54 días

CPV

31712100
Publicado
11/05/202608/05/2026

Resumen

Objeto:

El contrato tiene por objeto el suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un sistema de limpieza y activación superficial mediante plasma de oxígeno, destinado al laboratorio del Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología (ISOM) de la Universidad Politécnica de Madrid (UPM). El sistema permitirá la realización de tratamientos de limpieza y funcionalización superficial, eliminando contaminantes orgánicos, activando superficies y modificando controladamente la energía superficial sobre diversos materiales y sustratos utilizados en micro y nanofabricación. El objetivo es dotar al ISOM de un equipo avanzado para optimizar las etapas críticas del flujo de fabricación de dispositivos micro y nanométricos, mejorando la calidad de las interfaces, la adhesión entre materia...

Características:

El sistema a adquirir es un equipo de limpieza y activación superficial mediante plasma de oxígeno de alta precisión. Sus funciones principales son la eliminación de contaminantes orgánicos, la funcionalización de superficies y la modificación controlada de propiedades superficiales en dispositivos y estructuras micro y nanométricas. El equipo deberá permitir tratamientos de plasma sobre una amplia variedad de materiales y sustratos, garantizando uniformidad, reproducibilidad y control del proceso, así como la preservación de la integridad de las muestras. El sistema contará con control preciso de parámetros como potencia de radiofrecuencia (RF) (hasta 500 W, con control en pasos de 1 W), presión de trabajo, flujo de gases y régimen de operación (continuo y pulsado, con ajuste de duty cycl...

Criterios de evaluación:

Solvencia económica:

Solvencia técnica:

Medios materiales:

Medios personales:

Fecha de inicio:

A partir de la firma del contrato.

Duración:

Hasta el 30 de junio de 2026.

Lugar de ejecución:

Laboratorios del Instituto de Sistemas Optoelectrónicos y Microtecnología (ISOM), dentro de la sala limpia. Planta baja del edificio C de la ETSI Telecomunicación de la U.P.M., Avenida Complutense, 30, 28040-Madrid, España. (Provincia: Madrid)

Contradicciones y puntos débiles de los requisitos:

Consideraciones importantes:


ENS Nivel medio
ISO 9001
ISO 14001
ISO 27001